事關臺積電2nm晶片,ASML早已給出結果

就目前而言,能夠量產的最先進製程晶片是5nm,至於4nm、3nm製程的晶片,臺積電和三星都在積極突破。

其中,三星已經發布了全球首款3nm儲存類晶片,預計在2022年量產3nm製程的晶片。

臺積電則計劃在今年下半年試產4nm、3nm製程的晶片,並將在2022年進行規模量產。

在2nm晶片方面,IBM已經發布了全球首個製造技術,但IBM自身並不製造晶片,而與三星、英特爾等合作製造。

事關臺積電2nm晶片,ASML早已給出結果

臺積電方面也已經透露,2nm晶片進展超出了預期,將會採用全新的GAA工藝,並且,在2020年底,臺積電就開始著手建設第一座2nm晶片工廠。

但沒有想到的是,臺積電2nm晶片工廠兩次遞交申請,均遭到了環保部門的拒絕。

據瞭解,臺積電2nm晶片工廠佔地60公頃,位於臺灣省新竹的科學工業園區,預計投資200億美元,日消耗水98000立方米,其中,68000立方米是通過當地供應。

由於臺積電新建2nm晶片工廠耗水太嚴重,而臺灣省今年又遇到了比較嚴重的乾旱,再加上其它廢棄物排放等影響,該計劃並沒有得到環保部門的批准。

事關臺積電2nm晶片,ASML早已給出結果

可以說,臺積電2nm晶片工廠建設計劃遭遇拒絕,ASML早已給出結果。

今年年初,ASML對外發布了2020年的財報,除了介紹營收和光刻機出貨等情況外,ASML還對未來做出了展望。

ASML表示新一代NA EUV光刻機將會在2025年投入使用,在該光刻機之後,ASML將更加註重光刻機的效率以及環保等。

也就是說,ASML方面已經認為到現有的光刻機在生產製造晶片過程中,存在效率低下、消耗能源過多等問題。

事關臺積電2nm晶片,ASML早已給出結果

就以佔地面積而言,一臺EUV光刻機就佔用了大量的空間,基本都達到了天花板的高度;

由於效率較低等原因,製造製程越先進的晶片,就需要用到越多的純水進行沖洗,目的是洗去雜質,更好地進行光刻。

要知道,用淡水製成純水,這是一個很消耗的水資源的過程,而純水沖洗晶圓,目的是帶走晶圓上的雜質。

由於2nm晶片製程太小,所以要不斷用純水沖洗,防止雜質影響光刻精度,這也是臺積電2nm晶片工廠耗水嚴重的原因。

事關臺積電2nm晶片,ASML早已給出結果

其實,製造先進製程晶片,除了對資源消耗過多之外,還有一個缺點,那就是成本高,這一點ASML也早就透漏出來了。

例如,ASML的DUV光刻機的售價僅幾千萬美元一臺,但EUV光刻機的售價都超過1億美元,至於新一代NA EUV光刻機,其售價將會超過4億美元。

要知道,光刻機是生產製造晶片的必要裝置,光刻機成本越高,意味著晶片製造成本就越高。

例如,臺積電投資擴建28nm晶片工廠,增加2萬片的月產能,投資不足30億美元,但其在美國建設月產2萬片晶圓的5nm工廠,投資都高達120億美元。

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而三星在美國建設3nm晶片生產線,直接投資170億美元。如今,臺積電建設2nm晶片工廠,投資都增加到了200億美元。

也就是說,生產製造製程越先進的晶片,其投資就越高,這意味著晶片製造成本也就越高,當然,採用先進製程晶片的裝置,其價格自然也是水漲船高。

其實,近年來,高階手機價格不斷上漲,主要就是因為晶片等元器件價格上漲,就以高通驍龍888處理器,其綜合成本都超過了200美元。

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另外,蘋果和華為是臺積電的大客戶,每年對晶片數量的需求基本相當,但兩者對臺積電貢獻的營收卻不斷增長,這也是因為先進製程晶片的代工價格不斷上漲導致的。